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503 人阅读发布时间:2024-05-08 10:51
黑磷以可调带隙和高迁移率的罕见组合,在2D材料中脱颖而出,成为高性能数字应用中最有前途的候选材料之一。特别是黑磷纳米带表现出优异的静电栅极控制,可以抑制纳米级晶体管中的短沟道效应,引起了研究人员的关注。然而,黑磷纳米带的可控制备长期以来面临挑战。
2024年2月28日,Nature Materials报道了一种生长策略,可直接在绝缘衬底上大面积生长黑磷纳米带。研究者以黑磷纳米颗粒作为晶种进行化学气相传输(CVT)生长,并获得仅沿[100]晶体方向的均匀单晶黑磷纳米带,厚度低至三个原子层、宽度低至14.0nm。通过结构计算,发现锯齿形边缘的自钝化是优先一维生长的关键。
单晶黑磷纳米带在晶体管操作中表现出优异的电学性能。研究者直接在生长纳米带SiO2/Si衬底上的单个纳米带上制造FETs,以退化掺杂的Si作背栅,结果显示单个纳米带的场效应晶体管表现出高达~104的开/关比,这是黑磷FETs中有史以来报道的最高值之一。这项研究证明了黑磷纳米带在纳米电子器件中的潜力,也为研究黑磷中的奇异物理现象提供了一个平台。
文中制备种子黑磷纳米颗粒使用的黑磷晶体来自先丰纳米。
文献名称:Seeded growth of single-crystal black phosphorus nanoribbons
DOI: 10.1038/s41563-024-01830-2